Marktkapitalisierung | 25,61 Mio. $ |
Enterprise Value | 15,89 Mio. $ |
KGV (TTM) KGV | negativ |
EV/FCF (TTM) EV/FCF | negativ |
EV/Sales (TTM) EV/Sales | 0,67 |
KUV (TTM) KUV | 1,09 |
KBV (TTM) KBV | 1,03 |
Umsatzwachstum (TTM) Umsatzwachstum | -13,44 % |
Umsatz (TTM) Umsatz | 23,57 Mio. $ |
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1 Analyst hat eine CVD Equipment Corporation Prognose abgegeben:
1 Analyst hat eine CVD Equipment Corporation Prognose abgegeben:
Sep '24 |
+/-
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Umsatz | 24 24 |
13 %
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Bruttoertrag | 3,96 3,96 |
47 %
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EBITDA | -4,82 -4,82 |
226 %
226 %
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EBIT (Operatives Ergebnis) EBIT | -5,54 -5,54 |
135 %
135 %
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Nettogewinn | -4,30 -4,30 |
1.094 %
1.094 %
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Angaben in Millionen USD.
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CVD Equipment Corp. beschäftigt sich mit dem Design, der Entwicklung und Herstellung von Anlagen und Prozesslösungen für die chemische Gasphasenabscheidung, Gaskontrolle und anderen hochmodernen Anlagen und Verfahren. Sie ist in den folgenden Geschäftsbereichen tätig: Chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Rostfreie Designkonzepte (SDC), Werkstoffe und Corporate. Das CVD-Segment bietet Systeme für die chemische Gasphasenabscheidung zur Verwendung in der Forschung, Entwicklung und Herstellung von Komponenten für die Luft- und Raumfahrt und die Medizin, Halbleitern, Leuchtdioden, Kohlenstoff-Nanoröhren, Nanodrähten, Solarzellen und einer Reihe anderer industrieller Anwendungen. Das DEZA-Segment liefert ultrahochreine Gas- und Chemikalienabgabesteuerungssysteme für Halbleiterherstellungsprozesse, Solarzellen, Leuchtdioden, Kohlenstoff-Nanoröhren, Nanodrähte, Nanodrähte und eine Reihe von industriellen Anwendungen. Das Segment Materialien umfasst die korrosionsbeständige Tantaline-Oberflächenbehandlung, das robuste MesoScribe-Direktschreibverfahren, die elektronischen Materialien für fortschrittliche Elektronik und Kohlenstoff-Verbundprodukte. CVD Equipment wurde am 13. Oktober 1982 von Leonard A. Rosenbaum gegründet und hat seinen Hauptsitz in Central Islip, NY.
Hauptsitz | USA |
CEO | Emmanuel Lakios |
Mitarbeiter | 128 |
Gegründet | 1982 |
Webseite | www.cvdequipment.com |
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